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簡(jiǎn)要描述：Nanosystem NV-1000白光干涉儀是利用白光干涉特性來(lái)進(jìn)行表面形貌的測量，它結合了典型的WSI非常高的垂直分辨率和一個(gè)非常大的面積高達21.7毫米x16.3毫米。這使得高精度和大面積快速測量成為可能，而無(wú)需縫合。
產(chǎn)品型號：廠(chǎng)商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2021-04-17訪(fǎng) 問(wèn) 量：1340產(chǎn)品分類(lèi)
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| 品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區間 | 35萬(wàn)-50萬(wàn) |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)品種類(lèi) | 非接觸式輪廓儀/粗糙度儀 | 產(chǎn)地類(lèi)別 | 進(jìn)口 |
| 應用領(lǐng)域 | 地礦,電子,航天,汽車(chē),電氣 |
Nanosystem NV-1000白光干涉儀
WSI白光干涉/PSI相位干涉測量檢測設備，利用白光干涉現象以及干涉信號處理方式，高精度真實(shí)還原測量物體的輪廓原貌，解決了測量高精度物體時(shí)，只能破壞測量物做切片的難題。
設備測量應用涵蓋晶圓，液晶，等離子顯示板，半導體，透鏡曲率測量，印刷電路板等方面?？v向測量精度高達0.5nm/0.1nm（WSI/PSI）以下，平面測量精度高達到7.4nm以下。其高精度，廣領(lǐng)域度，客戶(hù)體驗度，受到了高精制造行業(yè)的喜愛(ài)。
設備原理
WSI白光干涉和PSI相位干涉原理雖然測量原理不同，但是除了使用單頻光和多頻光這一點(diǎn)不同外，使用同樣的光學(xué)和測量系統，因此可以在同一設備上進(jìn)行使用。
兩種測量方法共同的特征是利用干涉信號進(jìn)行處理。干涉信號是從任意光源同時(shí)出發(fā)的兩束光通過(guò)不同的光路后疊加時(shí)，根據兩束光的光路距離差產(chǎn)生明暗相間的物理現象。WSI/PSI設備正是使用了以上原理進(jìn)行測量。
WSI測量原理
WSI（White-LightScannng Interferometry）的特征
-在掃描范圍內持續掃描后進(jìn)行測量。
-在允許掃描的范圍內可以測量高度。
PSI測量原理
PSI（Phase ShiftingInterferometry）測量原理
PSI的特征
-中心波長(cháng)（大約600nm）的1/4為間隔，進(jìn)行4回掃描后測量。
-與掃描范圍無(wú)關(guān)，只能測量250nm以下的高度。
Nanosystem NV-1000白光干涉儀技術(shù)參數：
干涉物鏡：?jiǎn)瓮哥R可選
掃描范圍：0-180um（270um可選）
垂直分辨率：WSI：﹤0.5nm ，PSI ：﹤0.1nm
傾斜臺：±3°
Z軸行程：30mm（手動(dòng)）
工作臺面：50X50mm（手動(dòng)）
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