NanoSystem CS-2000氣缸內壁光學(xué)測量系統結合了無(wú)損分析性能, 操作便利。除了評估ISO粗糙度值, 采用白光干涉測量技術(shù)之外, 這款緊湊型系統還可以測量納米尺度粗糙度, 亞納米分辨率和生產(chǎn)水平能力的三維表面形貌。 它可以測量直徑從70到160毫米的缸孔。

奧林巴斯OLYMPUS DSX1000超景深數碼顯微鏡用于觀(guān)察和測量各種樣品，包括電子元件和金屬材料。此顯微鏡使用簡(jiǎn)單，只要放上樣品，就可以輕松地完成 3D 觀(guān)察、測量、報告自動(dòng)生成等一系列操作。

奧林巴斯Olympus STM7工業(yè)測量顯微鏡系列采用了當前*光學(xué)顯微鏡中所使用的UIS2無(wú)限遠校正光學(xué)系統。因此，觀(guān)察到的圖像具有高分辨率和高對比度，此外，像差也被*消除，以確保實(shí)現對微小細節的高精度測量。

NanoSystem NVM-6000P表面形貌測量系統測為L(cháng)CD、IC Package、Substrate、Build-up PCB、MEMS，Engineering Surfaces等領(lǐng)域提供納米級別精度的測l。NVM-6000P是型設備，用于基板表面形貌的測量。 基板上的Via Hole，Pad形狀，Pattern形貌和表面形貌等11個(gè)項目可以進(jìn)行自動(dòng)測量。

Olympus 3D測量激光顯微鏡OLS5000作為3D測量顯微鏡有著(zhù)更真實(shí)的三維形貌反映能力，具有操作更便捷、更快速的優(yōu)勢。OLS5000采用計算機直觀(guān)控制，搭載的掃描算法，可通過(guò)計算機的處理轉換，快速獲得完整帶有高度信息的樣品表面圖像，并通過(guò)對樣品不同層面的掃描和計算機處理。在使用時(shí)，只要在放置樣品后按動(dòng)按鈕，設備就會(huì )自動(dòng)進(jìn)行工作，無(wú)需進(jìn)行復雜的設置調整，即使是不熟練的用戶(hù)也可獲準確的檢測結果

奧林巴斯Olympus半導體顯微鏡MX63/63L系統支持檢測尺寸達300毫米的晶圓、平板顯示器、印刷電路板以及其他樣品的質(zhì)量。這些符合人體工學(xué)設計的人性化系統采用模塊化設計，可在各種應用中實(shí)現Z佳觀(guān)察條件。結合奧林巴斯Stream圖像分析軟件使用時(shí)，從觀(guān)察到生成報告的整個(gè)檢測流程更簡(jiǎn)潔直觀(guān)。